第4章 狮子大开口(第2/3 页)

能激发氙气等离子体光源技术的相关资料。

按照约定，张君华身穿整洁的正装，带着他的成果，准时地来到了玲珑行政楼的会议室。

门扉缓缓打开，会议室宽敞明亮，长型会议桌上摆放着整齐的文件和水杯，墙上的LED屏幕静默以待。

张君华的目光扫过在场的每一张面孔，瞬间倒吸一口凉气，为全球变暖做出了一份贡献。

程意，这位玲珑的领袖，带着从容的沉稳，坐在会议桌的中心位置。

旁边坐着的是玲珑首席执行官，钟正辉。

会议桌两侧，一看发型就知道是技术部的大佬。

“各位领导下午好，很抱歉来晚了。”

“接下来我就不浪费大家的时间，直入正题。”

张君华迅速将笔记本电脑连接到LED屏幕上，并打开了事先准备好的PPT。

“各位，今天我将向大家展示的不仅仅是一项创新技术，而是一个可能改变我们玲珑乃至国内整个半导体行业未来的机会。”

程意和钟正辉两人目光交汇，前者脸上带着温和的笑容，后者则眉头紧皱。

张君华语气坚定，目光扫过每一位与会者。

他开始讲述高能激发氙气等离子体光源技术的核心原理，“使用钼、硅等具有不同折射率的金属和介电材料组成多层膜干涉滤波器。”

“这种设计使得滤波器在特定的EUV波长上具有高反射率，从而提高了EUV光源的光谱纯度。”

张君华继续说道，他用清晰的图表和数据分析，展示了他的技术如何克服现有技术的短板。

“同时搭配我设计的适应性光学系统，能够应对由于氙气激发条件，如温度、压力、激光强度等变化引起的光谱偏移，确保持续输出高纯度的EUV光。”

随着介绍的深入，会议室内的氛围逐渐变得热烈。技术人员开始交头接耳，讨论这项技术的可行性。

两个小时过去。

“综上所述，高能激发氙气等离子体光源技术通过先进的物理干涉原理，有效解决了氙气EUV光源中存在的光谱纯度问题。”

“在半导体光刻工艺中的图形精确度和制造效率方面，遥遥领先于ASML公司，同时绕开了他们的专利壁垒。”

最终，张君华一锤定音地说道。

钟正辉询问了在场的技术团队，“你们觉得这项技术怎么样？”

“氙气本来就是EUV光源的靶